當(dāng)前所在位置: 首頁 > 產(chǎn)品首頁 > 分析儀器、實驗室設(shè)備 > 光學(xué)分析儀器 > X射線衍射儀
產(chǎn)品介紹
用XRD和XRF組合技術(shù)對材料進行全面分析
- 利用2維傳輸XRD技術(shù)進行礦物學(xué)-結(jié)晶相分析
- 使用能量色散XRF技術(shù)進行元素分析
- 數(shù)據(jù)與結(jié)果的整合天衣無縫
- 節(jié)省了操作成本、空間和時間
BTX Profiler所使用的創(chuàng)新型XRD技術(shù)是美國國家航空航天局成功的火星科學(xué)實驗室項目中的“好奇”號漫游者曾經(jīng)使用過的技術(shù)。它所采用的另一種技術(shù)是Olympus的X射線分析儀所使用的廣受贊譽、優(yōu)質(zhì)實用的XRF技術(shù)。
規(guī)格參數(shù)
BTX Profiler的技術(shù)規(guī)格
| 用于單個樣品分析的BTX Profiler | 用于多個樣品分析的BTX Profiler | |
| XRD的技術(shù)規(guī)格 | ||
| XRD范圍 | 5-55度 2θ | 5-55度 2θ |
| XRD分辨率 | 0.25度 2θ | 0.25度 2θ |
| XRD探測器類型 | 1024 × 256像素2維Peltier致冷CCD | 1024 × 256像素2維Peltier致冷CCD |
| 樣件顆粒大小 | <150 μm碾壓粉末（100目篩） | <150 μm碾壓粉末（100目篩） |
| 其它樣品類型 | 凝膠、潤滑脂 | 凝膠、潤滑脂 |
| 樣品量 | ~ 0.5 g | ~ 0.5 g |
| X射線目標(biāo)材料 | 銅（鈷為可選項） | 銅（鈷為可選項） |
| X射線管電壓 | 30 kV | 30 kV |
| X射線管最大電流 | 330 μA | 330 μA |
| XRF的技術(shù)規(guī)格 | ||
| XRF探測器 | 大區(qū)域硅漂移探測器 | 大區(qū)域硅漂移探測器 |
| X射線目標(biāo)材料 | 銠 | 銠 |
| X射線管幾何形狀 | 發(fā)射目標(biāo)端窗口 | 發(fā)射目標(biāo)端窗口 |
| X射線管電壓 | 40 kV | 40 kV |
| X射線管最大電流 | 200 μA | 200 μA |
| 輕元素分析 | 氦沖，大約0.25 l/min | 氦沖，大約0.25 l/min |
| 主要過濾器 | 可配置7個位置 | 可配置7個位置 |
| 樣品量 | ~2 g | ~2 g |
| 工作溫度 | -10 °C～35°C | -10 °C～35°C |
| 重量 | 23.13 kg / 單樣品儀器 | 32.66 kg / 帶20個位置自動進樣機的儀器 |
| 外型尺寸 | 49.3 cm × 39.7 cm × 34.4 cm / 單樣品儀器 | 67.4 cm × 39.7 cm × 34.4 cm / 帶20個位置自動進樣機的儀器 |
BTX Profiler的技術(shù)規(guī)格
| XRD分辨率 | 0.25o 2? FWHM |
| XRD范圍 | 5 - 55o 2? |
| 探測器類型 | 1024 x 256像素；2維Peltier致冷CCD |
| XRF能量分辨率 | 200eV，5.9 keV |
| XRF能量范圍 | 3到25 keV |
| 樣件顆粒大小 | <150 μm 碾壓礦物質(zhì)（100目篩，150 μm） |
| 樣品量 | ~ 15 mg |
| X射線目標(biāo)材料 | 鈷或銅（鈷為可選項） |
| X射線管電壓 | 30 kV |
| X射線管功率 | 10 W |
| 數(shù)據(jù)存儲 | 40 Gb - 堅固耐用的內(nèi)部硬盤驅(qū)動器 |
| 無線連接 | 802.11 b/g，從網(wǎng)絡(luò)瀏覽器進行遙控 |
| 工作溫度 | -10oC到35oC |
| 重量 | 12.5 kg |
滬公網(wǎng)安備31011302006898號
