ALPhANOV雙激光斷層注入顯微鏡D-LMS

用于雙激光故障注入的 D-LMS 顯微鏡站是一個(gè)平臺(tái)，允許獨(dú)立聚焦和掃描兩個(gè)激光點(diǎn)，用于集成電路的評(píng)估。雙點(diǎn)注射工藝的理想選擇，它提供了所有空間和時(shí)間的靈活性，可以通過(guò)背面分析電路

集成電路評(píng)估雙激光站(均通過(guò)顯微鏡點(diǎn))

背面激光故障注入的理想選擇

具有高分辨率物鏡的1米以下單模激光光斑尺寸

兩個(gè)激光光斑都具有完全獨(dú)立的時(shí)間和空間調(diào)制

通過(guò)數(shù)百米的硅來(lái)觀察集成電路路徑上的激光點(diǎn)的照相機(jī)

高再現(xiàn)性和高分辨率激光光斑位移

包括三個(gè)阿爾法諾夫激光模塊

光學(xué)鏡頭技術(shù)

光電發(fā)射套件

熱激光刺激套件

通過(guò)CE認(rèn)證的激光外殼完成自動(dòng)設(shè)置

高分辨率目標(biāo)

單模光纖激光器

InGaAs 紅外相機(jī)

電學(xué)