EDMUND OPTICS載玻片37-538

高分辨率顯微鏡載玻片靶標(biāo)采用高精度電子束光刻技術(shù)設(shè)計。圖案蝕刻于10×10 mm² 熔融石英基板上，該基板具有寬光譜透射特性（深紫外-可見-近紅外），其表面覆有高光學(xué)密度的鉻層。通過去除鉻層形成100 nm的微觀結(jié)構(gòu)。高分辨率顯微鏡載玻片靶標(biāo)具備高尺寸穩(wěn)定性，并固定于金屬載玻片支架中。靶標(biāo)上的負(fù)形圖案使結(jié)構(gòu)呈現(xiàn)透明狀態(tài)，而背景區(qū)域則被鉻層阻隔。

高分辨率顯微鏡星形目標(biāo)

微小圖案尺寸 - 100 nm及3300線對/mm

采用高精度電子束光刻技術(shù)制成

負(fù)像圖案設(shè)計

高分辨率顯微鏡USAF板：可輕松測定物鏡在透射光下的分辨限值，包含59組線條圖案，水平與垂直方向線密度范圍為7.5至3300線/mm。該目標(biāo)板還設(shè)有5個直徑介于4.0-0.25 μm之間的針孔，可用于微成像光學(xué)元件的特性分析

高分辨率顯微鏡星形靶標(biāo)：包含5個西門子星，其獨特之處在于星形中間錐形段經(jīng)制造，Min寬度達(dá)150 nm。該靶標(biāo)適用于測定高數(shù)值孔徑顯微鏡物鏡的分辨率

高分辨率顯微鏡棋盤格靶標(biāo)：由50×50 μm²的方格構(gòu)成，總尺寸為9.0×9.0 mm²。其筆直銳利的邊緣設(shè)計使其成為測試圖像傾斜度與曲率、評估成像質(zhì)量的適配工具

生命科學(xué)、生物、工業(yè)檢測、半導(dǎo)體及研發(fā)等