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          VAT真空控制閘閥64.8

          • 品牌:VAT
          • 型號(hào):64.8

          產(chǎn)品介紹

          64.8 UHV控制閘閥系列專為半導(dǎo)體生產(chǎn)中的濺射或極紫外光刻等ultra-high真空工藝設(shè)計(jì),可實(shí)現(xiàn)可靠、準(zhǔn)確的控制與隔離。該系列滿足耐用性、模塊化、密封性及可維護(hù)性等標(biāo)準(zhǔn)要求,尤其注重高運(yùn)行時(shí)間和低擁有成本。

          64.8系列配備VATLOCK技術(shù),可在閥板無(wú)摩擦狀態(tài)下提供可靠密封。閥板作為節(jié)流元件調(diào)節(jié)閥門開度的導(dǎo)通率。內(nèi)置壓力控制器計(jì)算達(dá)到設(shè)定點(diǎn)壓力所需的閥板位置,由步進(jìn)電機(jī)執(zhí)行驅(qū)動(dòng)動(dòng)作,編碼器實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)閥板位置,從而實(shí)現(xiàn)快速精細(xì)的工藝壓力控制。獨(dú)特的VATLOCK鎖定機(jī)構(gòu)在關(guān)閉狀態(tài)下確保密封隔離,并在斷電時(shí)觸發(fā)故障安全關(guān)閉功能。

          通過(guò)金屬閥帽密封、波紋管密封饋通件及硫化閥板密封(可選配O型圈),實(shí)現(xiàn)ultra-high真空性能。

          64.8型閥門已在數(shù)千個(gè)嚴(yán)苛工藝條件下成功應(yīng)用,其卓絕可靠性經(jīng)受住考驗(yàn)。憑借堅(jiān)固耐用的無(wú)潤(rùn)滑設(shè)計(jì),該閥門完全滿足高循環(huán)真空控制閘閥的所有要求。

          64.8 UHV控制閘閥提供多種設(shè)計(jì)選項(xiàng),包括密封材料、法蘭連接、粗抽(旁通)、排氣或儀表接口,以及特殊控制算法(自適應(yīng)、固定PI下游/軟泵),可簡(jiǎn)化其在各類真空應(yīng)用中的集成??刂破饕部瑟?dú)立于閥門安裝。

          該系列提供DN 200至250mm(8“至10”)規(guī)格,DN 160(6“)和DN 320(12”)規(guī)格可按需定制。

          性能特點(diǎn)

          可靠、久經(jīng)考驗(yàn)的ultra-high真空設(shè)計(jì)

          免潤(rùn)滑

          VATLOCK技術(shù)

          堅(jiān)固不銹鋼主體

          可靠準(zhǔn)確的控制與隔離

          延長(zhǎng)免維護(hù)周期

          低擁有成本

          技術(shù)參數(shù)

          產(chǎn)地

          瑞士

          尺寸

          DN 160 (6“),DN 200 (8”),DN 250 (10“),DN 320 (12”)

          執(zhí)行機(jī)構(gòu)

          集成壓力控制器,帶閉環(huán)控制步進(jìn)電機(jī)

          閥體材質(zhì)

          不銹鋼

          穿管結(jié)構(gòu)

          波紋管穿管

          標(biāo)準(zhǔn)法蘭

          ISO-F、CF-F、ASA-LP/ASA、JIS

          開啟時(shí)差壓

          ≤ 30 mbar

          閥位指示

          可視化(機(jī)械式及控制器顯示)

          閘門上的壓差

          DN 160-200:≤ 1.6 bar

          DN 250-320:≤ 1.2 bar

          溫度

          閥體:≤ 80°C

          控制器:highest 50°C(引薦≤ 35 °C)

          密封

          閥蓋:金屬

          閘板:氟橡膠

          安裝位置

          DN 160-250:任意

          DN 320:水平

          壓力范圍

          DN 160-200:1 × 10?¹? mbar 至 1.6 bar (abs)

          DN 250:1 × 10?¹? mbar 至 1.2 bar (abs)

          DN 320:1 × 10?? mbar 至 1.2 bar (abs)

          產(chǎn)品應(yīng)用

          半導(dǎo)體制造

          濺射工藝:在薄膜沉積過(guò)程中,準(zhǔn)確控制真空腔體壓力,確保薄膜均勻性。

          EUV光刻:維持ultra-high真空環(huán)境,防止光刻膠污染,提升良率。

          科研與高能物理

          同步加速器:隔離真空束線,減少氣體分子對(duì)粒子束的干擾。

          空間模擬:模擬太空真空環(huán)境,測(cè)試航天器材料耐久性。

          顯示面板制造

          OLED蒸發(fā):控制有機(jī)材料蒸發(fā)速率,優(yōu)化顯示層厚度。


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