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          VAT轉(zhuǎn)移門插件07.0

          • 品牌:VAT
          • 型號:07.0

          產(chǎn)品介紹

          在半導(dǎo)體生產(chǎn)系統(tǒng)中,大氣轉(zhuǎn)移門的核心性能指標(biāo)在于:顆粒激活度與顆粒排放量低,以及快速可靠的啟閉循環(huán)。

          全新07.0 HV轉(zhuǎn)移門插件搭載LINVAT技術(shù),將非凡的顆粒性能與優(yōu)化的可控性完整結(jié)合,實現(xiàn)可調(diào)節(jié)的快速循環(huán)周期。

          07.0 HV轉(zhuǎn)移門插件采用LINVAT技術(shù),其設(shè)計重點在于優(yōu)化顆粒性能與高速循環(huán)周期。

          通過優(yōu)化多項設(shè)計特性,實現(xiàn)了卓絕的顆粒性能表現(xiàn):板材上的扭力桿確保均勻密封壓縮,全封閉式執(zhí)行器,免潤滑環(huán)境,以及具備可調(diào)速曲線的真實L-Motion運動模式,有效避免閉合沖擊。

          07.0型卓絕的真實L型運動及可調(diào)速特性,源于VAT專有的LINVAT技術(shù)。該技術(shù)摒棄傳統(tǒng)L型運動中垂直與水平方向分別采用兩個執(zhí)行器的方案,僅通過單個執(zhí)行器實現(xiàn)兩步運動。由此形成高度可靠的執(zhí)行器方案,具備快速、穩(wěn)定、可調(diào)且無沖擊的運動特性。優(yōu)勢在于:提升設(shè)備運行時間并增強可控性。

          性能特點

          改進的顆粒性能設(shè)計

          無油運行環(huán)境

          卓絕的精細L型運動

          均勻的密封壓縮

          靈活的D-sub和AMP連接

          出彩的顆粒性能

          高運行時間

          可靠運行

          技術(shù)參數(shù)

          產(chǎn)地

          瑞士

          尺寸

          DN 10 mm (1.81“ × 9.29”)

          DN 12 mm (1.97“ × 13.23”)

          DN 14 mm (1.38“ × 13.23”)

          DN 15 mm (2.56“ × 16.54”)

          DN 20 mm (1.97“ × 16.54”)

          執(zhí)行機構(gòu)

          氣動

          穿管

          波紋管

          泄漏率

          < 1 × 10?? mbar·l/s

          閘門處壓差

          關(guān)閉方向:≤ 1 bar

          開啟方向:≤ 0.1 bar

          開啟過程壓差

          ≤ 30 mbar

          初次維護前循環(huán)次數(shù)

          ≥ 300萬次

          動作時間

          開啟: ≤ 1秒

          關(guān)閉:≤ 1秒

          溫度

          閥門處:≤ 120 °C

          執(zhí)行器處:≤ 80 °C

          材質(zhì)

          閥體:鋁合金

          波紋管保護層:聚四氟乙烯

          密封件

          硫化FFKM橡膠

          安裝位置

          執(zhí)行器可上下安裝

          氣源故障鎖定

          氣動鎖定

          位置指示器

          簧片開關(guān)

          重量

          DN 10, DN 12, DN 15:8.5千克 /18.7磅

          DN 14, DN 20:7.5 kg /16.5 lbs

          產(chǎn)品應(yīng)用

          半導(dǎo)體制造:用于晶圓傳輸、真空腔室隔離等關(guān)鍵環(huán)節(jié),保障生產(chǎn)環(huán)境的潔凈度與設(shè)備穩(wěn)定性。

          顯示器生產(chǎn):支持干式蝕刻、濺射、薄膜封裝(CVD)等工藝的真空控制。

          科學(xué)儀器領(lǐng)域:在科研裝置中實現(xiàn)高精度真空傳輸。

          工業(yè)真空系統(tǒng):如真空爐、真空運輸、電池生產(chǎn)等場景的顆??刂婆c高效傳輸。


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