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          VAT蝶形控制閥61.3

          產(chǎn)品介紹

          61.3 HV蝶形控制閥具備卓絕的壓力控制性能。憑借其快速精細(xì)的動作控制器(響應(yīng)時間0.1秒),該閥門是化學(xué)氣相沉積(CVD)和原子層沉積(ALD)工藝精細(xì)控制的理想解決方案。閥板作為節(jié)流元件,可調(diào)節(jié)閥門開度的導(dǎo)通能力。61.3型閥門內(nèi)置的壓力控制器能快速計(jì)算所需閥板位置,以Fastest速度達(dá)到設(shè)定壓力。

          該閥門專為含顆粒氣流的惡劣下游工藝設(shè)計(jì),即使在高顆粒負(fù)荷和碎屑堆積條件下仍能保持全功能運(yùn)行。

          61.3系列已在數(shù)千個嚴(yán)苛工藝條件下成功應(yīng)用,其卓絕可靠性經(jīng)實(shí)踐驗(yàn)證。憑借堅(jiān)固結(jié)構(gòu)、直裝選項(xiàng)及簡易維護(hù)特性,該系列產(chǎn)品整體滿足各類需求。

          通過提供多種設(shè)計(jì)選項(xiàng)——包括閥體材質(zhì)、表面處理、彈性體材料、法蘭連接方式、特殊尺寸規(guī)格以及特殊控制算法(自適應(yīng)控制、固定PI下游控制/軟泵模式)——該系列產(chǎn)品可輕松集成至各類真空應(yīng)用場景。

          61.3 HV蝶形控制閥提供鋁制或不銹鋼材質(zhì),配備ISO-KF和ISO-F標(biāo)準(zhǔn)法蘭接口。可集成客戶定制法蘭及特殊功能,例如帶保溫層的集成加熱器??筛鶕?jù)需求提供多種FFKM/FKM彈性體(FKM為標(biāo)準(zhǔn)配置)。

          性能特點(diǎn)

          卓絕的壓力控制

          極快的運(yùn)行速度

          內(nèi)置軟件支持本地操作

          在惡劣工藝條件下仍能可靠運(yùn)行

          更優(yōu)的工藝可控性

          高運(yùn)行時間/無限制性能

          低運(yùn)營成本

          產(chǎn)品結(jié)構(gòu)與細(xì)節(jié)

          技術(shù)參數(shù)

          產(chǎn)地

          瑞士

          尺寸

          DN 25 (1英寸) DN 40 (1½英寸), DN 50 (2英寸),DN 63 (2½英寸), DN 80 (3英寸), DN 100 (4英寸),DN 160 (6英寸), DN 200 (8英寸), DN 250 (10“),DN 320 (12”)

          執(zhí)行機(jī)構(gòu)

          步進(jìn)電機(jī)集成控制器

          主體材質(zhì)

          鋁或不銹鋼

          標(biāo)準(zhǔn)法蘭

          ISO-KF,ISO-F

          壓力范圍

          1 × 10?? mbar 至 1.2 bar (abs)

          穿墻件

          旋轉(zhuǎn)軸,直接驅(qū)動

          安裝位置

          任意(引薦軸位于泵側(cè))

          閥體泄漏率

          鋁制:< 1 × 10?? mbar·l/s

          不銹鋼:< 1 × 10?? mbar·l/s

          溫度

          閥體:≤ 150 °C

          控制器:highest50°C(引薦≤ 35 °C)

          密封

          穿墻件:FKM (其他材質(zhì)可定制)

          材質(zhì)

          閥體、閥板

          鋁合金:EN AW-6082 (3.2315)

          不銹鋼:AISI 316L (1.4404 或 1.4435)

          AISI 316L (1.4404 或 1.4435)

          產(chǎn)品應(yīng)用

          半導(dǎo)體制造

          刻蝕設(shè)備:在Cl?/HBr等離子體環(huán)境中快速切斷腐蝕性氣體,Al?O?鍍層蝶板與雙密封結(jié)構(gòu)確保長期耐腐蝕性。

          原子層沉積(ALD):超快響應(yīng)(<30ms)匹配前驅(qū)體脈沖注入,漏率<5×10?¹? mbar·l/s,保障薄膜純度。

          離子注入機(jī):無磁化鈦合金材質(zhì)避免束流干擾,XHV級密封維持真空環(huán)境穩(wěn)定。

          科研真空系統(tǒng)

          適用于高真空或ultra-high真空環(huán)境,如同步輻射光源、表面分析儀器等,提供穩(wěn)定可靠的真空隔離與控制。

          光伏鍍膜

          在真空鍍膜工藝中控制氣體流量,確保薄膜均勻性,適應(yīng)大規(guī)模生產(chǎn)需求。


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